シリコン中のアクセプタ不純物スピン状態の制御による長いコヒーレンス時間の実現

小林 嵩, J Salfi, C Chua, J van der Heijden, MG House, D Culcer, WD Hutchison, BC Johnson, JC McCallum, H Riemann, N Abrosimov, P Becker, H-J Pohl, MY Simmons, S Rogge